新凯来引爆光刻机板块！新莱应材、国风新材、冠石科技等近10家公平博体育- 平博体育官方网站- APP下载司涨停

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　　国信证券研究显示，光刻机作为所有半导体制造设备中难度最高、最难突破的一环，占晶圆生产设备总市场的24%。从UV到EUV，光刻机经历了五代发展和进化，每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。根据前瞻研究院数据，光刻机由光源、曝光和双工作台三大核心系统组成，一台EUV光刻机内含有超10万个精密零部件，全球供应商超过5000家。其中光学系统是最重要的子系统之一，约占整体光刻机成本的30%。